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更新时间:2019-06-01 17:58 浏览: 光催化氧化除臭设备机制主要包括两方面:一是高压放电等离子体的过程，高能量产生的高频放电，一些有害的气体化学能，使其成为无害的元素原子或;***二,由于高压放电等离子体,其中包含***量的高能电子,积极的和消极的离子、激发态粒子和有很强的氧化基,粒子和气体碰撞我的活动部分,在电场的作用下,激发态的气味。当气味获得的能量超过其键的结合能时，臭味的化学键就会分解并直接分解成单个或无害的单个原子。同时，***量的活性基，如OH,HO2，·O和O3，被高度氧化，与有害气体发生化学反应，产生无害的产物。
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